Kit amend sistema integrado repositor de massa capilar rmc system quantidade: 1 shampoo repositor 300ml 1 repositor de massa capilar 300g 1 balm protetor 300ml código amend: 1236-1 ?validade: 06/2022 o sistema integrado repositor de massa capilar rmc system amend devolve a condiçao original dos cabelos e promove uma proteçao completa contra os danos futuros como tinturas, permanentes, calor do secador, chapinhas e agressoes externas como mar, sol, piscina e radiaçao uv
Indicaçao: para cabelos danificados e enfraquecidos
Princípios ativos: bioativo positivo açao: cabelos mais resistentes, reduçao de quebra e pontas duplas e repoe a massa capilar perdida
Modo de usar: 1 - lave os cabelos com o shampoo repositor, massageando suavemente os cabelos com as pontas dos dedos; 2 - enxágue e repita a operaçao
Retire o excesso d 'água com uma toalha; 3 - aplique o repositor de massa capilar de maneira uniforme, mecha por mecha; 4 - deixe agir por 10 minutos
Nao é necessario aquecer com toucas ou secador; 5 - enxágue bem, retirando todo o produto do cabelo
Retire o excesso d 'água com uma toalha; 6 - finalize o processo aplicando o balm protetor pós-reposiçao nos cabelos umidos mecha por mecha no comprimento do fio e pontas; 7 - penteie como desejar; 8 - nao é necessário o enxágüe
Precauçoes: mantenha fora do alcance de crianças, em lugar fresco e ao abrigo de luz intensa
Nao ingerir
Em caso de contato com os olhos, enxaguar imediatamente com agua abundante
Uso externo
Composiçao: shampoo repositor: dimethylpabamidopropyl laurdimonium tosylate / benzophenone-3 / lauroyl lysine / glycine / acetyl cysteine / arginine hcl, guar hydroxypropyltrimonium chloride, methylchloroisothiazolinone / methylisothiazolinone
Citric acid
Repositor de massa capilar amend rmc system: aqua, paraffinum liquidum, cetearyl alcohol / behentrimonium methosulfate, cetearyl alcohol, glycerin / hydroxyethyl cetearamidopropyldimonium chloride / behenyl alcohol / cetearyl alcohol / isocetyl alcohol / quaternium-70 / propylene glycol / amodimethicone / c12-14 sec-pareth-7 / c12-14 sec-pareth-5 / disodium lauriminodipropionate tocopheryl phosphate/ dimethylpabamidopropyl laurdimonium tosylate / benzophenone-3 / lauroyl lysine / glycine / acetyl cysteine / arginine hcl, cetrimonium chloride, cyclomethicone, corylus avellana seed oil, parfum, amodimethicone / c11-15 pareth-7 / laureth-9 / glycerin / trideceth-12, disodium edta, bht, methylchloroisothiazolinone / methylisothiazolinone, linalool, coumarin, limonene
Balm protetor pós-reposiçao amend rmc system: composiçao: aqua, cetyl alcohol, cetearyl alcohol / behentrimonium methosulfate, propylene glycol, amodimethicone, amodimethicone / c11-15 pareth-7 / laureth-9 / glycerin / trideceth-12, phenyl trimethicone, glycerin / hydroxyethyl cetearamidopropyldimonium chloride / behenyl alcohol / cetearyl alcohol / isocetyl alcohol / quaternium-70 / propylene glycol / dimethyl, methyl (aminoethylaminoisobutyl) siloxane / c11-c15 ethoxylated secondary alcohol / disodium lauriminodipropionate tocopheryl phosphates / dimethylpabamidopropyl laurdimonium tosylate / oxybenzone / lauroyl lysine / glycine/ acetyl cysteine/ arginine hcl, parfum, cyclomethicone, citric acid, bht, methylchloroisothiazolinone / methylisothiazolinone, linalool, coumarin, limonene.