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Sobre o Produto

A mascara pos quimica repositor de massa tem esse nome porque atua diretamente na fibra capilar repondo os aminoácidos fundamentais aos fios, reconstitui a estrutura e nutri proporcionando peso molecular

Com ativos de ultima geraçao que atuam em todas as fases da cutícula e do córtex, devolvendo o brilho e a maciez naturais dos cabelos e fornecendo proteçao extra aos futuros danos causados pelo procedimentos químicos ou mecânicos a mascara pos quimica repositor de massa é um produto ideal para diversos traumas provocados aos fios, como tinturas, permanentes, relaxamentos, descoloraçao e cabelos sem peso

Indicaçao: indicado para os de cabelos que passaram por progressivas, alisamentos, coloraçoes e descoloraçoes

Recomendado pelos melhores profissionais

Benefícios: reconstruçao hidrataçao força brilho proteçao contra danos futuros ativos complexo de aminoácidos resultados cabelos fortalecidos e restaurados

Mais brilho e maciez

Modo de usar após lavar os cabelos, retirar o excesso de agua e aplicar mascara pos quimica de massa capilar mecha a mecha, enluvando suavemente os fios

Deixe agir de 5 a 10 minutos e enxágue bem

Se preferir use touca térmica

Obs: repetir o tratamento com intervalo mínimo de 7 dias

Precauçoes uso externo, manter fora do alcance de crianças

Em caso de contato com os olhos e mucosas lavar abundantemente com agua, se necessário procure um médico

Nao aplicar se o couro cabeludo estiver irritado ou lesionado

Em caso de sensibilizaçao suspender o uso composiçao aqua, cetearyl alcohol,cetrimonium chloride, glycerin, paraffinum liquidum, behentrimonium methosulfate (and) cetearyl alcohol, stearamidopropyldimethyl amine, dimethicone, parfum (3-methyl-4-(2,6,6-tri-methyl-2-cyclohex lonone,benzyl salicylate/benzyl salicylate citral, citronellol, coumarin paeb, geraniol hexyl cinnamal, hydroxycitronellal, limonene (d-and- i-limonene), linalool), citric acid, methylchloroisothiazolinone (and) methylisothiazolinone, water, sodium pca, sodium lactate, argenine,aspartic acid,pca, glycine, alaine, serine, valine, proline, threonine, isoleucine, histidine, phenylalanine, glycerin, hydroxyethyl cetearamidopropyldimonium, chloride, behenyl alcohol, cetearyl alcohol (and) isocetyl alcohol(and) quaternium-70, propylene glycol (and) amodimethicone, c 12-14 sec-pareth-7, c12-14 sec pareth-5 (and) disodium lauriminodipropionate tocopheryl phosphates (and) dimethyl pabamidopropyl laurdimonium toslytate (and) benzophenone-3 (and) lauroyl lysine (and) glycine (and) acetil cystein (and) arginine hci

Nao testamos produtos em animais

No do processo anvisa: 25351.133417/2017-20

Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria
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Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria
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Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria

O leave-in pos quimica é um finalizador sem enxágue com propriedades hidratantes para cabelos quimicamente fragilizados, tingindos e/ou ressecados

Desembaraça e fecha a cutícula, protegendo os fios do ressecamento causado pelo calor do secador e efeitos nocivos do meio ambiente

Protege os fios proporcionando brilho, leveza e preservaçao da cor

Composto de silicones nobres que atuam prolongadamente, maximizando os resultados eliminando o frizz

Desenvolvido para completar o tratamento dos cabelos quimicamente modificados

Modo de usar: com os cabelos levemente umidos, aplicar uma pequena quantidade no leave-in pos quimica na palma da mao e aplicar nos cabelos suavemente

Nao enxaguar

Se preferir pode escovar e pranchar

Especificaçoes técnicas: garantia de fábrica: 30 dias.

Máscara Pós Química Repositor de Massa - 300g - Kiria Hair na loja Magazine Luiza

Frete Grátis: Consulte

Máscara Pós Química Repositor de Massa - 300g - Kiria Hair

A mascara pos quimica repositor de massa tem esse nome porque atua diretamente na fibra capilar repondo os aminoácidos fundamentais aos fios, reconstitui a estrutura e nutri proporcionando peso molecular

Com ativos de ultima geraçao que atuam em todas as fases da cutícula e do córtex, devolvendo o brilho e a maciez naturais dos cabelos e fornecendo proteçao extra aos futuros danos causados pelo procedimentos químicos ou mecânicos a mascara pos quimica repositor de massa é um produto ideal para diversos traumas provocados aos fios, como tinturas, permanentes, relaxamentos, descoloraçao e cabelos sem peso

Indicaçao: indicado para os de cabelos que passaram por progressivas, alisamentos, coloraçoes e descoloraçoes

Recomendado pelos melhores profissionais

Benefícios: reconstruçao hidrataçao força brilho proteçao contra danos futuros ativos complexo de aminoácidos resultados cabelos fortalecidos e restaurados

Mais brilho e maciez

Modo de usar após lavar os cabelos, retirar o excesso de agua e aplicar mascara pos quimica de massa capilar mecha a mecha, enluvando suavemente os fios

Deixe agir de 5 a 10 minutos e enxágue bem

Se preferir use touca térmica

Obs: repetir o tratamento com intervalo mínimo de 7 dias

Precauçoes uso externo, manter fora do alcance de crianças

Em caso de contato com os olhos e mucosas lavar abundantemente com agua, se necessário procure um médico

Nao aplicar se o couro cabeludo estiver irritado ou lesionado

Em caso de sensibilizaçao suspender o uso composiçao aqua, cetearyl alcohol,cetrimonium chloride, glycerin, paraffinum liquidum, behentrimonium methosulfate (and) cetearyl alcohol, stearamidopropyldimethyl amine, dimethicone, parfum (3-methyl-4-(2,6,6-tri-methyl-2-cyclohex lonone,benzyl salicylate/benzyl salicylate citral, citronellol, coumarin paeb, geraniol hexyl cinnamal, hydroxycitronellal, limonene (d-and- i-limonene), linalool), citric acid, methylchloroisothiazolinone (and) methylisothiazolinone, water, sodium pca, sodium lactate, argenine,aspartic acid,pca, glycine, alaine, serine, valine, proline, threonine, isoleucine, histidine, phenylalanine, glycerin, hydroxyethyl cetearamidopropyldimonium, chloride, behenyl alcohol, cetearyl alcohol (and) isocetyl alcohol(and) quaternium-70, propylene glycol (and) amodimethicone, c 12-14 sec-pareth-7, c12-14 sec pareth-5 (and) disodium lauriminodipropionate tocopheryl phosphates (and) dimethyl pabamidopropyl laurdimonium toslytate (and) benzophenone-3 (and) lauroyl lysine (and) glycine (and) acetil cystein (and) arginine hci

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Ficha Técnica

Ficha Técnica e Características do produto "Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria"

Ficha técnica e caractérísticas do produto Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria
Descrição

O leave-in pos quimica é um finalizador sem enxágue com propriedades hidratantes para cabelos quimicamente fragilizados, tingindos e/ou ressecados

Desembaraça e fecha a cutícula, protegendo os fios do ressecamento causado pelo calor do secador e efeitos nocivos do meio ambiente

Protege os fios proporcionando brilho, leveza e preservaçao da cor

Composto de silicones nobres que atuam prolongadamente, maximizando os resultados eliminando o frizz

Desenvolvido para completar o tratamento dos cabelos quimicamente modificados

Modo de usar: com os cabelos levemente umidos, aplicar uma pequena qua

Ficha técnica e caractérísticas do produto Máscara Pós Química Repositor de Massa - 300g - Kiria Hair Máscara Pós Química Repositor de Massa - 300g - Kiria Hair
Descrição

A mascara pos quimica repositor de massa tem esse nome porque atua diretamente na fibra capilar repondo os aminoácidos fundamentais aos fios, reconstitui a estrutura e nutri proporcionando peso molecular

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Perguntas Frequentes (FAQ)

Dúvidas sobre "Leave-in Pós Quimica Repositor de Massa 300ml - Kiria"?

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